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国产集成电路用碳纳米管工程化制备设备研制成功

发表于:2017-10-11 16:28:42
近日,北方华创科技集团股份有限公司与北京大学共同承担的“集成电路用碳纳米管工程化制备化学气相沉积设备研制”课题,通过了北京市科委组织的专家组验收。
 
 
高纯度、高密度半导体性碳纳米管材料的批量制备是碳基集成电路工程化制备的重要瓶颈。在北京市科委的支持下,国内集成电路装备龙头企业北方华创与北京大学联合攻关,开展国产4英寸碳纳米管工程化制备设备及工艺研发,历时2年研制成功一台4英寸碳纳米管工程化制备化学气相沉积设备样机,开发出4英寸碳纳米管晶体生长的工艺技术。
 
该设备通过不断优化石英基片的预处理及生长过程压力和温度控制,解决了碳纳米管制备过程中,单晶石英基底在升温过程中经历相变易碎裂的技术问题。
 
该设备的研制成功,解决了集成电路用碳纳米管材料工程化制备装备瓶颈问题,有助于保持我国在碳基未来芯片制造技术的领先优势,有效推动了碳基集成电路技术向实用化方向发展。
 
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